第二天一大早。

谢威跟于国峰在招待所用豆浆、油条填饱肚子，直接到了无线电14厂找覃秋华。

“要真能解决半导体蚀刻时的涂层问题，良品率至少会提升40%以上。”

对由于国峰陪着过来的年轻学弟，覃秋华从来不曾轻视。

谢威这大清早找上门来，说帮14所解决不良品居高不下的问题。

顿时就让覃秋华眉头皱了起来。

年轻人，不知天高地厚啊。

“学弟，昨晚我把情况都向你做了介绍，国内电子工业、半导体材料、光学等领域底子都太薄弱了……”

覃秋华严肃地看着谢威，希望他能脚踏实地。

“覃学长，基础差，底子薄，大家都知道。咱们不去讨论，我只想知道，如果学校提供更好的涂层材料，让良品率大幅度提升，您能说服厂里先帮我们生产吗？”

谢威知道覃秋华为什么质疑。

基础差是事实，可他不想讨论基础。

目前，别说国内，国际上芯片的研究，都没有太过深入。

芯片电路制作使用涂层材料主要为碳化硅（SiC）、热解碳（PyC）、碳化钽（TaC）三种。

相比几十年后普遍使用的过氟烷基化物（分子结构含有一个或多个全氟烷基作为取代基），差得太多了。

芯片制造过程工艺很复杂，关键在与光刻阶段。

谢威了解的整个光刻过程是这样的：

硅晶圆上涂抹光刻胶——紫外线透过印着电路图的掩膜照射、溶解电路上的光刻胶——注入硼或磷粒子，使被溶解了胶的硅区域具有晶体管属性——填充金、银、铜等金属元素，联通晶体管形成电路——涂胶，保护已制好电路，利用换掩膜重复光刻。

整个光刻过程，看起来很简单，一目了然。

可真的做起来……

“你要是真能提供，我保证优先生产你们所需的！不仅如此，厂里会为你申请个人重大立功！”

覃秋华打量了好一阵谢威。

严肃地说道。

要是年轻的学弟真能搞出来，国家得减少多少损失？

大规模集成电路，有着几十层甚至更多层电路。

光刻时，任何一步出现问题，整个产品就报废了。

全工艺流程中，光刻过程是最容易出问题的，绝大部分废品就是在这里产生。

覃秋华没告诉谢威，如果真能提供更好的涂层材料，良率率能提升到60%甚至更高！