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第422章改造成功,0.1纳米精度光刻机
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但这一次系统明确要求他必须在设备附近守候。他看了看洁净车间里唯一一张椅子,拉过来坐下,背靠着墙,面对着光刻机。

最初的十几分钟什么动静都没有,光刻机安静地立在原地,控制面板上的指示灯照常闪烁。

然后他听到了声音。

不是机械运转的声音,而是更细微、更密集的声响——像是有无数极细小的零件在机器内部重新排列组合的底噪。

许锋站起来,走到光刻机侧面。

外壳的金属表面看不出任何变化,但当他用手掌贴上去的时候,能感觉到一种极细微的震颤从机器内部传导出来。

他往后退了一步,继续等。

改造持续了一个多小时,其间震动停了两次,每次停大约几分钟,然后又重新开始。

最后一次震动停止之后,光刻机控制面板的屏幕突然闪烁了一下,然后开始逐行刷新自检程序。

许锋走到控制面板前面,看着屏幕上的自检数据一行一行跳出来——光学系统精度校验通过,精密运动平台定位精度校验通过,曝光光源波长切换校验通过,控制系统人工智能模块加载校验通过。

屏幕上的最后一行字是:“光刻机改造升级完成。当前精度等级:0.1纳米。”

许锋低吼:

“什么??零点一纳米!”

许锋盯着那个数字看了很长时间。

然后他关掉控制面板,走到门口把主灯重新打开。

灯光照在那台银灰色光刻机上,机器外观和改造前几乎没有变化。

外壳还是原来的外壳,工位还是原来的工位,连控制面板的布局都和之前一模一样。

但内部的核心组件已经全部更新,极紫外光源的波长比深紫外光源短了近一个数量级,运动平台的定位精度从微米级跃升到了纳米级的极致,控制系统中还嵌入了一套人工智能自适应校正算法。

他知道这意味着什么,也知道这个数字一旦公布出去会引发什么级别的震动。

零点一纳米,这个精度已经超出了当前全球半导体行业公开报道的最高水平,而且超出的不是一星半点,是整整一代甚至两代的代差。

许锋关掉洁净车间的灯,轻轻带上门。

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