那么接下来，他就要开始砸盘了。

关于三星这一波舆论，一直从九月上旬延续到九月的中旬。

九月十二号这天，沉默许久的梁伯嵩发表了一篇公开论文，这篇论文中，梁伯嵩先生用非常细致且通俗易懂的语言，阐述了他主张的“鳍式场效应晶体管”和“全环绕栅极晶体管”工艺上的不同，以及不同工艺带来的性能，功耗方面的不同。

最后的结论就是：

“鳍式场效应晶体管”在工艺理念上全面领先“全环绕栅极晶体管”，“全环绕栅极晶体管”不仅需要更先进的EUV光刻机才能制造，同时，相比“鳍式场效应晶体管”工艺制造出来的芯片，“全环绕栅极晶体管”工艺做出来的芯片，功耗将会增加百分之10，性能却要因此弱上百分之7左右。

而“鳍式场效应晶体管”，越是高精越是微观，他所能带来的性能提升越明显，功耗消耗越小。

最要命的是，三星本土技术团队目前正在研发的路线，良品率是无法得到有效控制的。

在芯片制程工艺推进至7nm，5nm时，他所掌握的“鳍式场效应晶体管”工艺，在性能上将超出三星的工艺百分之15左右，功耗降低百分之20左右，良品率更是可以控制在百分之95。

这篇公开论文一出，业界直接炸了。

那岂不是说，梁伯嵩掌握的“鳍式场效应晶体管”就是未来半导体芯片的版本答案？

很多业内大佬当天就针对那篇论文研究起来，而因为这一篇论文，三星的股票再次开始暴跌，仅仅两天时间，三星的股票就跌了百分之10。

这让很多为三星护盘的新罗人资产也瞬间蒸发了百分之10。

再热烈的民族自豪感，面对资产的疯狂缩水，也是捉襟见肘的啊。

很多见势不妙的新罗人一边嘴上在网上叫嚣着不要抛售，拿住稳赢，一边暗地里暗戳戳的开始疯狂出货。

五天后，面对持续暴跌的三星股价，很多新罗人纷纷跟着抛售三星的股票。

而在这背后，蓄势已久的吕尧，简筱洁，荣念晴，还有李容真都开始隐秘的进场，扫货一般揽收着这些带血的筹码。

最低的时候，三星的股价甚至跌到903。

相较之前跌了三百点还多。

虽然未来一段时间，三星的股价还会继续跌，但市场上能扫到的货也就这么多了，吕尧这一拨人是不会轻易把这批低价筹码吐出来的。

而面对吕尧他们这边的咄咄逼人，三星半导体研发团队那边也紧跟着披露出更多的技术细节和数据，以此来反驳梁伯嵩的公开论文。

梁伯嵩的“鳍式场效应晶体管”虽然在目前的产品中表现确实更为优越，但它也有自己的问题，那就是需要投入的研发资金，研发时间和需要突破的技术难点太多。

凡是参与过半导体芯片制程工艺研究的企业应该都明白，芯片工艺越高精，所需要投入的成本就越大。

更要命的是，这些投入能不能出成果都是未知的。

在10nm以内的制程工艺上，“鳍式场效应晶体管”是否能够突破到更高更小的物理尺度都两说。

但三星团队的“全环绕栅极晶体管”却比梁伯嵩的工艺更加的容易突破，更有希望突破至7nm，甚至是代表未来的3nm。

然后双方就专业的学术问题论道起来。