高端193nm级别光刻机完全被海外垄断，严禁对华出口，技术壁垒高到近乎无法逾越。

在此之前，国内无数科研院所，国企大厂投入巨资，耗时数年攻坚，始终无法突破193nm光刻的核心技术瓶颈，只能在低端制程徘徊。

而华创，一家成立不足1年，以智能手机出圈的民营科技公司，悄无声息完成了国家级的技术突破。

这绝非简单的设备仿制，而是彻底吃透光学原理、精密机械控制、激光光源调校、光刻工艺适配的全套底层技术，是真正意义上的国产自主可控！

梁景徽深吸一口气，压下心中的激动，继续汇报后续规划，眼神无比坚定：

“而且我们团队在干式机型攻坚过程中，彻底吃透了193nmArF光源的全套技术逻辑。基于现有技术积累，193nmArF光源浸润式光刻机的技术路径已经完全打通，核心难点全部攻克！”

他简单解释其中的技术跨度，让苏诚清晰知晓突破的含金量：

“干式机型是以空气为介质，是193nm光刻的基础版本。

而浸润式机型是在物镜与晶圆之间加入超纯水作为介质，利用水的高折射率压缩等效波长。

能大幅提升曝光分辨率，制程能力、精度上限、适配场景全面升级，是下一阶段高端制程的核心设备。

现在技术图纸、算法模型、工艺方案全部定稿，不存在任何技术盲区，只差整机装配与调试！

根据团队最新工期测算，整套干式光刻机量产生产线，浸润式光刻机整机研发调试。

全部工程预计今年年底可以全面完工落地，届时我们将拥有完整的193nm级别光刻机量产能力，彻底打破海外封锁！”

看似平淡的汇报，背后却是足以颠覆国内半导体格局，补强国家硬核短板的惊天成果。

苏诚低头看着密密麻麻的精准实测数据，每一组参数都印证着技术的真实性与成熟度，眼底终于泛起一抹深邃的亮色。

他早已知晓结局，此刻依旧心生感慨。

在智能机赛道横扫行业，万众瞩目之时。

华创真正的底牌，从来不是一台触屏手机，而是这不受任何人掣肘的硬核底层工业技术。

“辛苦了。”

苏诚抬眼，真诚郑重，带着对科研人员的敬重：