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第371章 技术突破
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就在两方的粉丝在网络上撕得昏天黑地,各大八卦论坛几乎要被口水淹没的档口。

一则来自苏北华芯的官方公告,却如同一声春雷,将所有浅薄的娱乐喧嚣震得粉碎。

华芯官方宣布:

经过皓锋集团与金陵大学联合研究院不眠不休的刻苦攻关,我国在半导体核心原材料领域取得了历史性的重大突破!

成功研发出了拥有自主知识产权的ArF氟化氩浸没式光刻胶!

并且,金陵的科研团队一举攻克了行业公认的壁垒:

正胶负显影PTD工艺!

这几个专业而生涩的学术名词,对于普通大众而言或许如同天书。

但公告最后用红字标注的那行总结,却让每一个东大人都看懂了它那沉甸甸的含金量:

【该工艺的突破,意味着我国自主研发的国产芯片,自此拥有了向14纳米先进制程芯片发起冲击的资格!】

消息一出,举国沸腾!

“14纳米!我们东大的科技企业能造14纳米芯片了?!”

“天呐,我没看错吧?华芯牛逼!皓锋牛逼!”

几乎在公告发布的半小时内,各大主流媒体、央视新闻以及无数科技自媒体博主便闻风而动,开始在全网范围内进行科普该技术的基本原理。

也就是在这一天,全国民众才终于大概了解了,这一门被美日死死卡住脖子的化学工业工艺,到底有多难。

“如果说光刻机是半导体工业的‘枪’,那光刻胶就是必不可少的‘子弹’。

在此之前,我们国家在高端光刻胶领域,进口依赖度是100%,几乎完全被日本的信越化学和JSR垄断。

这也意味着一旦人家断供,我们东大全国的芯片厂都得当场停摆!”

“而华芯这次攻克的正胶负显影PTD工艺,不仅打破了西方的全面技术封锁,更是在配方上实现了完全的自主可控!”

看着视频里博主们激动得满脸通红的讲解,无数东大网友在感到震撼的同时,心头也升起了一股无与伦比的民族自豪感。

闹了半天,当一些人还在为了小日子的两个女明星撕得面红耳赤的时候。

由李锋掌舵的皓锋集团,却在不声不响中,替整个国家把半导体领域最硬的一块骨头给啃了下来

......

也就在这举国欢庆的节点,近年来鲜少接受媒体采访的李锋,罕见地出现在了镜头前,接受了一期面向全国播出的《新闻面对面》央视专访。

电视画面中,李锋身穿深灰色西装,神色谦和,面对着主持人的提问,显得沉稳而内敛。

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